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이직을 목적으로 반도체 핵심기술을 외국으로 유출하려 한 삼성전자 수석 연구원이 징역형 집행유예와 벌금형을 선고받았다.

▲ 반도체 산업기술 자료사진 (사진 = 법률닷컴)

서울중앙지법 형사합의23부 (재판장 오세용 부장)는 21일 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 기소된 A 씨 (52)에게 징역 3년에 집행유예 4년과 벌금 2000만 원을 선고했다.

또 240시간 사회봉사를 함께 명령했다.

A 씨는 지난 2022년 3월부터 6월까지 모 외국 반도체 업체에 D램 반도체 적층조립기술 등 국가핵심기술과 영업비밀을 개인 이메일을 이용해 유출한 혐의를 받는다.

A 씨는 해당 외국 반도체 업체에 이직할 목적으로 범행을 벌인 것으로 조사됐다.

당시 A 씨가 유출한 자료에는 'D램 반도체 적층조립기술‘ 등 국가핵심기술 13건과 'D램 반도체 사업화 전략 자료’ 등 각종 영업비밀 100여 건이 포함돼 있었다.

재판부는 “(유출한) 자료들은 삼성전자가 영업비밀로 여겨 외부 유출이 되는 경우 중대한 피해 발생을 충분히 예상할 수 있었다”며 “반도체 산업 비중이 큰 우리나라 경제 발전에 중대한 악영향을 미칠 가능성을 충분히 인식할 수 있었다”고 지적했다.

또 ▲3개월간 반복해 유출한 점 ▲120건 유출된 점 ▲범행 적발 후부터 범행을 부인하며 반성하지 않고 있는 점 ▲삼성전자 측이 엄벌을 탄원하는 점 등을 양형의 이유로 설명했다.

다만 ▲자료가 외부에 유출되지 않은 점 ▲삼성전자가 기술 취급자들에게 국가핵심기술에 해당한다는 사전 고지나 유출 방지 조치를 따로 취하지 않은 점 등은 판결에 유리한 정상으로 참작됐다.